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结构特点
1、采用脉冲技术，使沉积粒子细化，膜的性能提高，且具有沉积速度快、离子能力大等特点；
2、配备柱状阴极点弧源和磁控溅射源，适合范围广；
3、新型靶源结构，有效提高离化率和膜层均匀性；
4、所镀膜层具有硬度高，膜层与基底结合强度好，耐酸、碱、盐的能力强的特点
多弧离子镀膜设备供应
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详细信息 结构特点
1、采用脉冲技术，使沉积粒子细化，膜的性能提高，且具有沉积速度快、离子能力大等特点； 2、配备柱状阴极点弧源和磁控溅射源，适合范围广； 3、新型靶源结构，有效提高离化率和膜层均匀性； 4、所镀膜层具有硬度高，膜层与基底结合强度好，耐酸、碱、盐的能力强的特点 |